BEOL档案- Coventor - BOB体育在线

2020年4月17日

发表的QingPeng王在2020年4月17日

类别

识别和预防7nm制程失败

器件的成品率高度依赖于正确的工艺目标和制造步骤的变化控制。[．..]

2017年10月18日

发表的迈克尔Hargrove 在2017年10月18日

类别

减少线后端(BEOL)互连寄生电容一直是先进技术节点发展的重点。多孔低k介质材料已被用于实现降低电容，然而，这些材料仍然是脆弱的[．..]

2017年5月17日

发表的迈克尔Hargrove 在2017年5月17日

类别

在EUV光刻成为现实之前，三重光刻(LELELE)、自对准双光刻(SADP)和自对准四重光刻(SAQP)等多种图形技术正在被用于满足严格的要求[．..]

2017年4月12日,

发表的穆斯塔法Akbulut 在2017年4月12日,

类别

对于集成商来说，当他们在掩模上的模式最终变成了他们想要在芯片上的模式时，事情就变得容易了。多模式模式，如自对齐双模式[．..]

2017年2月13日

发表的Coventor 在2017年2月13日

类别

在2017年SPIE Advanced Lithography大会上，Coventor将展示提高下一代半导体器件密度和产量的研究结果[．..]

2016年12月15日

发表的大卫炸在2016年12月15日

类别

Coventor最近在2016年IEDM上组建了一个专家小组，讨论BEOL工艺技术的变化将需要继续尺度扩展到7纳米或更低。我们[．..]

2016年6月14日

发表的Coventor 在2016年6月14日

类别

2016年3月，Coventor受邀参加在比利时鲁汶举行的两年一度的IMEC合作伙伴技术周(PTW)。IMEC是世界领先的纳米技术研究集团，[．..]