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我们是在Semulator3D 2014发布的尖端上的权利。这在制作中是一个很大的释放，我知道我们在释放日时，我并不孤独。您可以阅读新闻稿并获取更新的数据表，但我想借此机会为您提供个人工程师到工程师的透视图，为什么对完成高级流程开发的人如此令人兴奋。
喇叭的大项目是我们的新模式依赖蚀刻模型。我们已经启用了多种不同形式的模式依赖性，包括宽高比效果，如宽高比蚀刻（ARDE），以及图案密度负载（PDL）等更长的效果。我们已经将此功能应用于基本蚀刻模型，也是非常流行的MultiTch模型。MultiEtch, which made huge improvements in modeling multiple different types of etch physics in multi-material stacks, was released in SEMulator3D 2013. Pattern-Dependence might seem a bit daunting to model, so we’ve taken a few specific actions to help different types of users into this feature. First, Pattern-Dependence can just be switched off, leaving Basic Etch and MultiEtch exactly as users remember them in the last release. Second, for the more process-oriented users, we have a “Calibration Wizard” view, which lets users enter a few measurement points, and has SEMulator3D calculate the numerical dependence coefficients. Finally, for the hard-core modeling community, we let you directly specify modeling coefficients… and even material-dependent coefficients separately. This should keep all of our users happy!
模式依赖的结果非常令人兴奋。下面的模型是一种简单的通透校准布局，包括孤立的小通孔，密集的小通孔阵列和单个大的通过形状。
通过简单的校准，一些关键影响变得清晰：
•最浅蚀刻的隔离小通孔，但侧壁最垂直
•密集阵列的蚀刻深度稍深，但该阵列中心的过孔与边缘的过孔之间存在明显的相关性。
•大型形状速度较深，具有大的横向偏置和更高的硬掩模消耗
这些效应与校准数据很好地匹配，然后可以使用该模型预测这些过程在大量设计结构中的行为。这一功能将使我们的客户在虚拟制造工作中更具预测性，特别是由于设计敏感性已成为业界的一个非常热门的话题。
结构搜索实际上是2013年10月的第一个形式发布，但Semulator3d 2014代表了这一强大检查功能的第一个官方生产发布。与2013年发布的虚拟计量相比，在3D模型的特定位置执行特定测量，结构搜索检查整个3D模型，然后报告特定标准的位置。这可以用于找到例如最小介电厚度的位置，是先进技术的关键可靠性标准。输出包括文本输出列表违规，以及错误标记叠加在完全构建的3D模型上的图形表示。下面的示例显示了一束可以在48nm间距集成BEOL的3D示例模型上执行的其他检查。现在，用户可以找到他们甚至不知道寻找的问题。这些是复杂综合技术中最隐蔽的问题。
Semulator3d 2014版本还包括400个其他增强功能，改进和错误修复（根据数据库），但我认为开发团队可能填充他们的数字！在任何情况下，在此版本中有很多欢呼。我知道客户一直在急切地等待这些功能，所以我迫不及待地等待放松！
