10月27日,2021年

使用过程建模在自对准四倍图案中提高装置均匀性

尽管对EUV光刻兴趣不断增长,但自我对齐的四轮图案(SAQP)仍然具有许多模式一致性,简单性和成本的技术优势。非常简单和尤其如此[...]
2020年9月23日

在特征依赖蚀刻期间加速干燥蚀刻过程的开发

在干法蚀刻中,由于与气体分子和其他随机热效应的碰撞,加速离子的轨迹是不均匀的,非垂直的(图1)。这有影响[...]
2019年2月4日

创新解决方案,以增加3D NAND闪存密度

3D NAND闪存已启用新一代非易失性固态存储器,其在几乎每个可想而出的电子设备。3D NAND可以实现超过2D NAND的数据密度[...]
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