2021年5月27日
图2。模拟结果显示了3种不同的蚀刻工艺和4种不同的沉积工艺
出版人金正勋 在2021年5月27日
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利用虚拟工艺库改进半导体制造

人们认为，半导体工艺模拟库的开发应使用经验数据有力支持的完美理论背景。这在学术研究中可能是正确的[…]
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2021年1月19日
图4。三种不同结构上特定蚀刻工艺库的模拟结果
出版人金正勋 在2021年1月19日
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虚拟半导体工艺评价简介

虚拟工艺库如何加速半导体工艺开发？工艺工程师使用逻辑理论框架结合逻辑工程步骤，开发工程问题的理想解决方案。不幸的是，许多过程[…]
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2019年12月16日
图3。对基底结构（b，中间）应用蚀刻工艺的结果。基本结构显示了预期的蚀刻结果，而初始开口较大的结构（c，右侧）在结构底部具有意外拓扑。在完成模拟蚀刻过程时，具有较小开口和较高阶梯形状（a，左侧）的结构经历了减小的最终蚀刻开口和蚀刻深度（与基础结构（b）相比）。
出版人金正勋 在2019年12月16日
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半导体工艺建模导论：工艺规范和规则验证

半导体工艺工程师希望开发出成功的工艺配方，而无需重复晶圆测试的猜测。不幸的是，开发一个成功的过程离不开一些工作。这个博客[…]
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