我们的客户对我们的看法

  • 我们已经获得了批判性的,反直观的见解,如果我们使用基于实验晶圆的测试,我们就不会轻易发现... Semulator3d允许我们理解临界流边际并使我们能够设计替代解决方案。Semulator3D是这些复杂过程变化研究的最“硅准确的”过程建模软件。它通过加速和降低开发周期并限制基于晶圆的学习循环的时间和成本,为IMEC和我们的合作伙伴提供高价值。
    IMEC.
  • 最新的CoventorMP产品发布在MEMS设计能力上取得了突破。通过引入GDS导入功能和在MEMS+中网格化任意几何形状的能力,我们可以在器件和系统级快速、准确地评估MEMS设计的性能。MEMS+使我们能够轻松迭代设计更改和改进,以满足我们的产品性能目标。ADI从Coventor在MEMS设计自动化方面的进步中受益匪浅,我们期待继续与Coventor的长期合作。
    模拟设备
  • 使用SEMULATOR3D虚拟制造允许工程师容易地开发和测试使用多种物理设计模式的大量处理步长组合和新颖的过程流,这在真实的制造环境中是不可能的。可以通过实验测量校准每个过程步骤的模型,从而产生非常可靠的结果模型,可以以多种组合重复使用。
    Teledyne Dalsa.
  • Verilog-A从MEMS +导出的缩小订单模型(ROM)捕获在基本手工制作模型中未见的二阶效果,而不会在模拟性能中妥协。我们能够在几分钟内创建一个复杂陀螺仪设计的Verilog-A ROM,允许我们的ASIC团队与MEMS团队在进一步设计迭代中与MEMS团队一起工作。(...。)MEMS +启用的MEM和ASIC设计人员之间的强大模型交换会降低设计错误的概率,可以帮助避免昂贵的重新设计来解决意外行为所需的迭代。
    村田
  • Semulator3D是我们选择新技术和想法的首选工具。我们还使用Semulator3D为新同事的文档和培训创建3D横截面。生成3D图片和动画的能力使得解释一个过程更容易。
    英飞凌科技奥地利AG

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使用由COVETOR开发的半导体过程模拟,该3D模型以高分辨率表示FINFET设备的一小部分。图形显示每个边缘上大约600nm的结构的一部分(大致橙色光的波长)。17种颜色中的每一个代表制造过程中的不同材料。

该模型完全集成,高度预测性和极其准确,显示所有过程通过FEOL到后端金属层开始晶片。它突出了Semulator3D的先进虚拟晶片制造能力,包括MultiqtCh,可视性限制沉积,选择性外延和其他半导体制造工艺。

(信用:彼得炒,Arc-3D和纽约州应用物理系)

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